台灣設計專利近期修法動態

台灣智慧產局於今年9月11日公布專利法部分修正草案並於同年11月4日舉辦公聽會。為因應數位科技的圖像設計及產業需求和國際趨勢,該專利修法草案涵蓋設計專利的重要變動部分,簡述要點如下。

修正項目現行規定修正草案備註
一案多設計原則上為一案一設計,如同一申請人有二個以上近似設計,可申請設計專利及其衍生設計專利。同一申請人有二個以上近似設計,可將多個設計合併於一件申請案提出專利申請,並指定其中一個設計為原設計。 仍保留現行衍生設計。提供申請人二種方式申請多個近似設計的專利 : (1)多設計合案申請,或(2)申請衍生案。
圖像設計應用於物品之電腦圖像及圖形化使用者介面。對於數位技術之圖像設計,鬆綁其需應用於物品之限制。刪除圖像應用於物品的限制,並明定為以電腦程式或其他數位技術產生之圖像 (不是指一般非電腦數位產生的圖案)。
新穎性優惠期六個月十二個月公開事實發生後之期間 (指申請人出於本意或非出於本意之公開,不致喪失新穎性、創作性)。
分割申請申請分割必須是在初審或再審階段審查當中辦理,初審或再審已核准審定者不得申請分割。初審或再審核准審定後三個月內得申請分割,並依原申請案(母案)之程序續行審查。核准後三個月內仍可分割。

台灣設計專利近期修法動態